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            1. 真空熱處理系列

            2. 真空釬焊系列

            3. 真空燒結系列

            4. 真空高溫高壓系列

            5. HIP熱等靜壓系列

            6. 不銹鋼管(高端能源、EP潔凈)專用熱處理系列

            7. 鈦合金高溫合金專用配套熱處理系列

            8. 真空氫化系列

            9. 碳材料特種生產線設備

            10. 連續生產線

            11. 半導體晶體生長系列

            12. VCDF系列真空化學氣相沉積爐

              用途:

                     在高溫并在真空狀態下,通入碳源氣體,在高溫下產生裂解,沉積到工件上,主要用于C/C的化學氣相沉積,使復合材料得到致密化處理。   

              可選項:

                     1、底裝料式  

                     2、上裝料式


                     設備溫區大小可根據客戶實際需求定制。


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